韩国第二大记忆芯片制造商SK Hynix周三表示,他已经在韩国的记忆生产线上采用了复杂的生产设备,以加速下一个代理芯片的发展。
该公司表示,已在首尔南部Ichheon的主要生产基地安装了第一个极端紫外线印刷系统(High EUV)高价值行业。
高NA EUV是指高级光刻系统,该系统在应用较大的数值开口时提供了更好的分辨率,该开放量可以测量光学系统收集光的能力。
该设备由位于荷兰的Asmay Company生产。这表明数值开口增加了40%,精度增加了1.7倍。
SK Hynix表示,该系统将加速下一代内存产品的开发。
“我们很高兴地宣布,我们致力于为客户提供一系列服务。”在Yong,R&D Head,SK Hynix。
他说:“我们的目标是利用快速增长和下一代计算机市场所需的前卫技术来增强我们在人工智能记忆(AI)领域的领导。”
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